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第1页第一篇文章日期: 2026-07-28
第1页最后一篇文章日期: 2026-07-27

美媒:中國今年能生產約五台DUV光刻機 交付長鑫等晶片製造商

據美國科技媒體The Information報道,中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光刻機(DUV),預計將在今年內交付給國內主要晶片製造商,包括中芯國際、華虹半導體和長鑫存儲。

報道稱,這一突破最終可能對半導體微影設備巨頭荷蘭阿斯麥在中國市場的地位構成挑戰,但國產設備目前在性能和可靠性方面仍有差距,在實現量產前還需進一步測試。

據悉國產DUV的初期產量將較為有限,預計今年生產約5台DUV光刻機,2027年產量約為20台。

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