中国据报成功打造EUV光刻机原型被形容为“中国曼哈顿计划”

2025年12月17日 20:31

据路透引述消息报道，中国科学家今年初在深圳实验室打造出了一部极紫外光（EUV）光刻机的原型机，目前正在测试阶段，体积几乎占满整个工厂楼层，可生产驱动人工智能（AI）、智能电话和先进武器的芯片。

报道指出，这项被形容为“中国曼哈顿计划”的秘密工程项目，突显中国锐意在AI芯片技术领域与西方匹敌。至于所谓“曼哈顿计划”，即美国秘密研制原子弹的战时计划。

据路透引述消息报道，中国科学家今年初在深圳实验室打造出了一部极紫外光（EUV）光刻机的原型机，目前正在测试阶段。（示意图）

由ASML前工程师团队打造

报道又指，这部EUV光刻机由荷兰芯片设备制造商ASML前工程师团队打造，对ASML生产的EUV光刻技术进行了逆向工程。现时该部中国EUV光刻机已能运行并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的芯片，而中国政府的目标是在2028年前实现原型机芯片生产，但项目相关人士表示，更有可能到2030年才实现量产。

ASML CEO Christophe Fouquet去年出席SPIE大会并发表演讲，当时介绍了High NA EUV光刻机。

EUV光刻机是全球芯片竞赛中最精密的制程之一，利用极紫外光束在硅片上蚀刻电路，能制造出更小、更密集的电路，能提升芯片的效能及效率，从而生产出最先进、高阶的芯片。而这项技术一直被西方供应商垄断。