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第1页第一篇文章日期: 2026-05-21
第1页最后一篇文章日期: 2026-05-21

荷兰ASML获政府许可 年底前继续向中国客户交付光刻机

荷兰光刻机巨头ASML发表声明,表示已获政府发出许可证,允许ASML今年继续出口光刻系统,将持续在年底前向中国客户交付支持38nm至7nm的先进半导体制造装备。

装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社
装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社

 

装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社
装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社

 

装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社
装配工程师正在组装TWINSCAN DUV 光刻系统。 路透社

 

一部TWINSCAN NXE:3400B 半导体光刻机进行最终组装。 路透社
一部TWINSCAN NXE:3400B 半导体光刻机进行最终组装。 路透社

 

荷兰费尔德霍芬ASML总部外墙的巨型商标。 路透社
荷兰费尔德霍芬ASML总部外墙的巨型商标。 路透社

 

据内地《快科技》报导,ASML已经获得荷兰官方的允许,在今年年底前向中国客户出口其生产的先进半导体制造设备。该公司表示,直到年底之前,ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV(深紫外线)型号的产品。这些产品从9月1日起受到相关法令的限制。

至于2024年是不是可以继续对中国出口此一等级的DUV光刻机或更先进的半导体设备,ASML则表示暂时还无法确定。

据ASML官网提供的资讯,该公司目前售卖的主流浸没式DUV光刻机产品共有3款,分别是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。目前已确知NXT:1980Di不在限制范围内,NXT:2000i与NXT:2050i仍需获得荷兰政府的许可。

据ASML公布财报指出,2023财年2季度销售额处于高水平,其中高阶EUV光刻机销量呈现下滑,而营收成长主要来自于浸润式DUV光刻机超出预期,尤其是中国市场在DUV光刻机占比较1季度大幅成长200%,让ASML的业绩保持强劲成长。今年前7个月,中国从ASML进口的半导体设备较去年同期增长了64.8%。

半首体业界专家指出,尽管出口管制收紧带来了挑战,但中国对半导体设备进口额的大幅增长,显示中国正在继续扩大成熟制程的生产。据市场研究机构Counterpoint的资料显示,今年第2季度,前5大半导体设备制造商对中国的出货量增长了30%。

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